VF-5300型堆垛式量产竖炉

这种带有内置储料器的立式炉在超高温下大批量加工8英寸晶圆。
该炉是一种半导体热处理系统,可进行氧化、扩散、LPCVD、活化退火等多种热处理。

特征

  • 大批量,最多150片晶圆批量加工
  • 最多20盒
  • 使用LGO加热器从低到中高温范围内进行出色的温度控制
  • 单/五片晶圆搬运机器人在高速晶圆搬运中的应用
  • 配备操作友好的高性能控制系统

概述

该型号是一种连续的大批,大规模生产型垂直扩散炉,配备储料器,最多150个晶片(8英寸)或20个盒式磁带。由于LGO加热器,该炉子在低温至超高温范围内具有卓越的温度特性。该炉子可用于从低温退火,氮化物(Si3N4),多晶硅(Poly Si)和其他材料LPCVD到氧化和扩散的各种加工。二硅化钼(MOSI2)加热器也可用于支撑SiC电源装置栅极氧氮化和其他超高温处理。

规格

外形尺寸 W900×D2300×H3300毫米
加热器 LGO加热器
平区长度 960毫米
晶圆尺寸 6至8英寸
批量大小 150片晶圆
I/O端口 2.
磁带库存数量 20(标准)
手指 5片+单片
主机通信 HSMS/GEM(可选)
选项 强制冷却系统
N2.负载锁定
薄片处理
SMIF操作

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