VF-3000低成本迷你批量立式炉

这种配备自动输送机的低价立式炉可用于从研发到批量生产4至8英寸晶圆的一系列功能。
我们已经实现了如此低的价格,以至于后端用户可以引进这种炉。
提供超高温处理,最适合电动设备制造。

特性

  • 为后端用户提供的低成本设备
  • 小批量,50 - 75片,可从研发到批量生产
  • 4- 8英寸晶圆片尺寸可供选择
  • 最多4盒卡带
  • 优异的温度控制,从低到中高温范围使用LGO加热器
  • 使用单一晶片搬运机器人进行高速晶片传送
  • 配备有限功能简单的控制系统

概述

该炉可用于从4英寸到8英寸的晶圆,并可选择50-75个小批量的晶圆加工。经过精心选择的硬件和控制系统内容,实现了较低的价格,这款立式炉可以用于从研发到批量生产的广泛功能。选择和使用合适的加热器从LGO加热器,二硅化钼(MoSi2)加热器和碳加热器不仅用于低温退火,氮化(Si3N4),多晶硅(poly Si)等材料LPCVD,氧化和扩散,而且用于SiC功率器件栅硅氧氮化,活化退火等超高温处理工艺。

规范

外尺寸 W1200×D1450×H2610毫米
加热器 LGO加热器
平区长度 360毫米
晶片大小 4至8英寸
批量大小 最多75片(8英寸50片)
I / O端口 4
盒式磁带数量 4
手指 单一晶片
选项 强制冷却系统
N2负载锁定
可转换晶片尺寸

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