VF-1000小型生产立式炉的研制

这种小型生产型立式实验研究炉(R&D)实现了高质量的加工。
该炉具紧凑,只需要小安装区域,但可用于各种晶片直径,并且具有与大量生产炉相同的温度特性。

特征

  • 研发的高性能处理
  • 小批量,最多25片晶圆批量加工
  • 提供2至8英寸和300毫米晶圆尺寸
  • 配备LGO加热器,实现与量产设备相同的高温性能
  • 配备功能有限的简易控制系统

概述

这种用于实验、研究(R&D)和小型生产的立式炉可用于从2英寸到8英寸、高达300毫米的各种晶圆尺寸,小批量的尺寸也可从多达25个晶圆中选择。由于加热器可从LGO加热器和各种其他加热器中选择,因此工艺开发可采用与大规模生产炉相同的炉口结构和加热器性能。该炉可用于各种硅片处理(LPCVD、氧化和扩散)、功率器件(Si和SiC)开发的硅栅氧氮化和活化退火,以及广泛的其他工艺。

规格

外形尺寸 宽1500×深1000×深2130毫米
加热器 LGO加热器
平区长度 至250 mm
晶圆尺寸 至8英寸
批量大小 到25个晶圆
选项 强制冷却系统
N2.负载锁定
50至150片加工晶片
300mm晶圆处理

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