RLA-1200快速热处理灯退火系统

这种灯具退火系统适用于4- 8英寸的晶圆,即使用于研发也能达到高质量的加工。活化和氧化可在真空(LP)环境和N2负载锁定气氛。

特性

  • 研发的高性能流程
  • 低成本系统,手动电纳转移
  • 上下十字灯结构和均热炉,提高了面内温度的均匀性
  • 可提供4- 8英寸的晶圆尺寸
  • 配备了操作友好的高性能控制系统
  • 真空石英管设计,使精确的气体替代和工艺在真空压力

概述

这种4英寸到8英寸晶片的灯退火系统通过200°C/秒的高速加热和手动电纳转移节省了处理成本。采用上下交叉卤素灯的结构,实现了优越的平面内温度均匀性,使低成本和高质量的加工成为现实。由于石英管的设计包括抗真空性能,加工可在清洁真空(LP)环境和N2负载锁定气氛。

规范

外尺寸 W1300×D1300×H1850毫米
操作温度 400到1200°C
升温速率 马克斯。200°C /秒
灯的布局 上下十字灯阵列
控制区数目 6
晶片大小 4至8英寸
晶片传送 手册
选项 真空系统
洁净工作台

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