188BET体育博彩半导体设备开发历史

Koyo Thermo Systems于1970年进入了半导体制造设备市场,释放了在塑身日本品牌下制造的水平热处理系统。当时,该公司被称为Koyo Lindberg,这是一家我们从1967年7月到1999年10月举行的身份。公司自提供广泛的热处理技术,这些技术在日本半导体行业的增长和发展中发挥了作用。我们的重点是开发由LGO加热器驱动的垂直热处理设备,具有细线元件。其他示例包括灯退火设备和清洁烤箱系统。

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制造半导体集成电路需要许多类型的设备来做出广泛的过程。实例包括掺杂设备,用于向半导体中加入微量杂质,以及燃烧电路图案的曝光设备(称为光刻的过程)。Koyo Thermo Systems通过制造氧化和沉积等方法中使用的热处理设备有助于这种广泛的一系列产品。

商业方法

生长利基市场

Koyo Thermo Systems专注于我们Excel的利基市场,尽一切努力开发新技术和设备这些市场需求。

直到1972年水平扩散炉

85000型水平扩散炉(完全在日本制造)在1972年完成。随着晶圆尺寸的不断增加,适用于8英寸晶圆的208A-M300型三层炉已成为我们今天的主要销售商。我们在水平扩散炉中使用的技术也已应用于太阳能电池制造中的扩散炉。这些型号目前被日本主要制造商使用,以满足日益增长的自然能源需求。

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直到1985年灯退火系统

我们的第一灯退火系统是专门使用日本技术开发和释放的。1992年,我们开发了全自动模型RLA-311。我们目前的重点是SIC电源装置的灯退火系统。

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直到1985年垂直扩散炉

随着我们的VF-2000垂直氧化扩散炉的开发,Koyo Thermo Systems成为一个行业先驱。1989年,我们开发了VF-5000系列垂直炉,用于大规模生产。这些型号功能清洁机器人并已成为旗舰产品。为了支持较大的晶片尺寸,我们还开发了300毫米晶圆的VF-5700和VF-5900型号和释放了型号。我们通过开发1,800°C的激活炉和1,400°C氧互化炉等设备来扩展SIC电源设备的设备销售。

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直到2001年清洁烤箱系统

这款清洁烤箱为后端用户开发的300 mm晶圆,在大量交付到Osat公司和其他客户端之后成为顶级卖家。我们现在正在扩大改进系统的销售,以便与下一代扇出晶圆级包装技术一起使用。

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